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【IFWS2024】 碳化硅襯底、外延生長及其相關設備技術分會日程公布

發表于:2024-11-05 來源:半導體產業網 編輯:

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2024年11月18-21日,第十屆國際第三代半導體論壇(IFWS2024)&第二十一屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA2024)、先進半導體技術應用創新展(CASTAS)將在蘇州國際博覽中心G館舉辦。?

目前,“碳化硅襯底、外延生長及其相關設備技術分會”日程出爐,分會得到北京北方華創微電子裝備有限公司、AIXTRON、中微半導體設備(上海)股份有限公司、蘇州思體爾軟件科技有限公司、國家第三代半導體技術創新中心(蘇州)的協辦支持。山東大學晶體材料國家重點實驗室主任、新一代半導體材料研究院院長徐現剛,美國?PowerAmerica 執行董事兼CTO、ICSCRM 2024 大會主席、北卡羅萊納州立大學教授 ?、IEEE寬禁帶功率半導體技術路線圖委員會(ITRW)主席Victor VELIADIS,瀚天天成電子科技(廈門)有限公司總經理馮淦將受邀聯袂主持本屆分會。?

屆時,韓國東義大學教授、釜山電力半導體研究所所長Won-Jae LEE,山東大學教授、南砂晶圓董事陳秀芳,北京北方華創微電子裝備有限公司博士張軼銘,美國電力執行董事?& CTO、ICSCRM2024大會主席、北卡羅來納州立大學教授、IEEE寬禁帶功率半導體技術路線圖委員會(ITRW)主席Victor VELIADIS,AIXTRON中國總經理方子文,浙江大學教授、?浙江材孜科技有限公司董事長皮孝東,中微半導體設備(上海)股份有限公司工藝主任工程師陳丹瑩,河北普興電子科技股份有限公司市場總監張國良等來自國內外的實力派專家們將齊聚一堂,分享主題報告,聚焦探討碳化硅襯底、外延生長及其相關設備技術的前沿趨勢,敬請期待!

分會詳細日程?

技術分會:碳化硅襯底、外延生長及其相關設備技術

Technical Sub-Forum:SiC Substrate & Epitaxial Growth and Equipment

時間:202411月20日08:50-11:55

地點:蘇州國際博覽中心G館 ? G103-104

Time: Nov 20, 08:50-11:55

Location:?Suzhou International Expo Centre ? G103-104

協辦支持

Co-organizer

?

?

北京北方華創微電子裝備有限公司

Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.

AIXTRON

中微半導體設備(上海)股份有限公司

Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China

蘇州思體爾軟件科技有限公司

Suzhou STR Software Technology Co. Ltd.

國家第三代半導體技術創新中心(蘇州)

National Center of Technology Innovation for Wide Bandgap Semiconductors (Suzhou)

主持人

Moderator ???

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徐現剛/XU Xiangang

山東大學晶體材料國家重點實驗室主任、新一代半導體材料研究院院長

Director of State Key Lab of Crystal Materials, Shandong University & Dean of Institute of Novel Semiconductors, Shandong University

?

Victor VELIADIS

美國 PowerAmerica 執行董事兼CTO、ICSCRM 2024 大會主席、北卡羅萊納州立大學教授 ?、IEEE寬禁帶功率半導體技術路線圖委員會(ITRW)主席

Executive Director and CTO of PowerAmerica, Chair of ICSCRM 2024, Professor of North Carolina State University and Chair of ITRW ( IEEE Wide Bandgap Power Semiconductor Technology Roadmap Committee)

?

馮淦/FENG Gan

瀚天天成電子科技(廈門)有限公司總經理

GM of GM of Epiworld International Co., Ltd.

08:50-09:00

嘉賓致辭 & 合影 /?Opening?Address?& Group Photo Shooting

09:00-09:20

?

SiC單晶的坩堝結構及PVT生長工藝條件的改進SiC Single Crystals with Modification of Crucible Structure and Process Condition for PVT Growth

Won-Jae LEE——韓國東義大學教授、釜山電力半導體研究所所長

Won-Jae LEE——Professor of Dong-Eui University,?Director of Busan Power Semiconductor Lab.

09:20-09:40

碳化硅單晶缺陷研究及產業化進展

Research and Industrialization Progress of SiC Single Crystal Defects

陳秀芳——山東大學教授、南砂晶圓董事

CHEN Xiufang——?Professor of Shandong University, Chair of Guangzhou Summit Crystal Semiconductor Co.,Ltd

09:40-10:00

面向SiC功率器件的裝備與工藝解決方案

NAURA Solutions for SiC Power Devices

張軼銘——北京北方華創微電子裝備有限公司博士?

Dr Zhang Yiming——Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co.,Ltd

10:00-10:15

茶歇/Coffee Break

10:15-10:35

硅晶圓廠中的SiC制造

SiC Fabrication in a Silicon Fab

Victor VELIADIS——美國電力執行董事 &?CTO、ICSCRM2024大會主席、北卡羅來納州立大學教授、IEEE寬禁帶功率半導體技術路線圖委員會(ITRW)主席

Victor VELIADIS——Executive Director and CTO of PowerAmerica, Chair of ICSCRM 2024, Professor of North Carolina State University and Chair of ITRW

10:35-10:55

化合物半導體外延大規模量產解決方案

High Volume Manufacturing of Compound Semiconductors Epitaxy

方子文——AIXTRON中國總經理

FANG Ziwen——GM of AIXTRON China

10:55-11:15

提拉式物理氣相傳輸法制備碳化硅單晶

Single-crystal 4H silicon carbide grown with the method of pulling physical vapor transport

皮孝東——浙江大學教授、?浙江材孜科技有限公司董事長

PI Xiaodong——Professor of Zhejiang University,President of Zhejiang IVSEMITEC Co.,Ltd

11:15-11:35

PRISMO PDS8 – 用于SiC功率器件外延生長的CVD設備

AMEC PRISMO PDS8 CVD System for Epitaxial Growth of SiC Power Device

陳丹瑩——中微半導體設備(上海)股份有限公司工藝主任工程師

CHEN?Danying——Process Chief engineer of Advanced Micro-fabrication Equipment Inc. (China)

11:35-11:55

大直徑碳化硅外延市場發展與挑戰

Large diameter SiC epitaxy market development and challenges

張國良——河北普興電子科技股份有限公司市場總監

ZHANG Guoliang——Hebei Pushing Electronic Technology Co., LTD

11:55-14:00

午餐 /?Lunch

參會聯系

大會總體日程1104

注冊參會

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