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安徽格恩半導體申請氮化鎵基化合物半導體激光器專利,提升遠場圖像FFP質量、光束質量因子和激光相干性

發表于:2025-03-21 來源:半導體產業網 編輯:

 國家知識產權局信息顯示,安徽格恩半導體有限公司申請一項名為“一種氮化鎵基化合物半導體激光器”的專利,公開號CN 119627617 A,申請日期為2024年8月。

專利摘要顯示,本發明涉及半導體激光元件技術領域,具體公開了一種氮化鎵基化合物半導體激光器。該氮化鎵基化合物半導體激光器,從下至上依次包括襯底、下限制層、下波導層、有源層、上波導層、上限制層,上波導層與上限制層之間具有強布里淵光力耦合層;強布里淵光力耦合層的In/C元素比例具有函數y=A+x?1/2x第一四象限曲線分布;In/O元素比例具有函數y=B+x?1/2x第一四象限曲線分布;In/H元素比例具有函數y=C+x?1/2x第一四象限曲線分布;該氮化鎵基化合物半導體激光器,能夠降低激光光場耗散,抑制光場模式泄漏到襯底形成駐波,提升遠場圖像FFP質量、光束質量因子和激光相干性。

天眼查資料顯示,安徽格恩半導體有限公司,成立于2021年,位于六安市,是一家以從事計算機、通信和其他電子設備制造業為主的企業。企業注冊資本8505.7882萬人民幣,實繳資本1316.6667萬人民幣。通過天眼查大數據分析,安徽格恩半導體有限公司共對外投資了1家企業,參與招投標項目4次,財產線索方面有商標信息2條,專利信息455條,此外企業還擁有行政許可12個。

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